Литография высокого разрешения в технологии полупроводников
Барбарош С.С.
Введение.
Оптическая литография объединяет в себе такие области науки, как оптика, механика и фотохимия. При любом типе печати ухудшается резкость края. Проецирование двумерного рисунка схемы ведет к уменьшению крутизны края, поэтому нужен специальный резист, в котором под воздействием синусоидально модулированной интенсивности пучка будет формироваться прямоугольная маска для последующего переноса изображения травлением или взрывной литографией.
Оптическая литография объединяет в себе такие области науки, как оптика, механика и фотохимия. При любом типе печати ухудшается резкость края. Проецирование двумерного рисунка схемы ведет к уменьшению крутизны края, поэтому нужен специальный резист, в котором под воздействием синусоидально модулированной интенсивности пучка будет формироваться прямоугольная маска для последующего переноса изображения травлением или взрывной литографией.
语言:
russian
文件:
DOC, 354 KB
IPFS:
,
russian0
Litres
想添加您的书店？ 通过 support@z-lib.do 与我们联系
转换文件
更多搜索结果
其他特权 
![В.В. Мартынов, Т.Е. Базарова — Технология полупроводниковых приборов и изделий микроэлектроники [Учеб. пособие для ПТУ, В 10 кн.] Кн. 8 Литографические процессы](https://s3proxy.cdn-zlib.se/covers200/collections/genesis/492f01eb41bd9da9969680db2e0aec8515e335e191d7e97dae7effbb27f7c268.jpg)
